三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制其他射頻電源和脈沖電源，各型電源均有500W到1000W多種規格可選。

鍍膜儀配有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。

三靶磁控濺射鍍膜儀應用范圍：

三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備

三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：

三靶直流電磁控濺射鍍膜儀
樣品臺	尺寸	φ150mm
	控溫精度	±1℃
	轉速	≦20rpm
	加熱溫度	≤750℃
磁控靶槍	數量	2” x3 （1”,2”可選）
	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	水流大小	不小于10L/Min
	冷卻方式	循環水冷
真空腔體	腔體尺寸	Dia.325mm×600mm
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	前開式
	腔體材料	不銹鋼
質量流量計	2路；量程100sccm；100sccm（可根據客戶需要定制多路氣路）
真空系統	產品型號	CY-GZK103-A
	分子泵	CY-600
	抽氣接口	CF160
	排氣接口	KF40
	前極泵	旋片泵
	真空測量	復合真空計
	供電電源	AC;220V 50/60Hz
	極限真空	1.0E-5Pa
	抽氣速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa
電源配置	數量	直流電源x2  射頻電源 x1
	*大輸出功率	直流電源500W 射頻電源500W
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機尺寸	1090mm X 900mm X 1250mm
	整機重量	350kg
	整機功率	6KW